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氧化亚硅连续气相沉积真空炉


  • 产品描述
    • 商品名称: 氧化亚硅连续气相沉积真空炉

    应用领域:

    氧化亚硅连续量产

    工艺描述:

    连续进料、出料,硅及二氧化硅归中 反应、气相沉积提纯,自动研磨刮料、 炉外收集。

    型 号

    装料尺寸

    装载量

    工作温度

    极限温度

    真空度

    总功率

    气氛类别

    工艺时长

    设备重量

    MGB140-130VH

    Φ 1400X1300

    2.0M3

    1350℃

    1600℃

    0.5-2.5Pa

    500KW

    Ar/N2

    连续,单炉   24H

    28T

关键词:

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