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氧化亚硅(预镁)气相沉积炉


  • 产品描述
    • 商品名称: 氧化亚硅(预镁)气相沉积炉

    应用领域:

    氧化亚硅前驱体预镁

    工艺特点:

    分层放料,三温区控温(受热均匀,成品一致性好)气相仓及放料坩埚为高温合金,使用寿命长,可连续使用2年以上;

    有强冷装置,可快速冷却;能耗低,可达10kWh/kg;

    全工艺一键启动,自动化程度高。

    型 号

    装载量

    极限温度

    真空度

    总功率

    气氛类别

    设备重量

    MGB50-50-120HH3

    120KG

    第一温区:1500℃

    第二温区:1350℃

    1~2Pa

    配置200KW(实际使用120KW)

     

    Ar/N2

    13T

关键词:

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