产品中心
- 产品描述
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- 商品名称: 多孔碳硅烷CVD沉积碳包覆一体真空炉
应用领域：
多孔碳材料CVD沉积 甲烷、乙炔CVD碳包覆
工艺特点：
本设备采用粉体雾化转流化先进工艺使CVD沉积更充分；
特殊的多弧形坩埚避免藏料，全范围无死角；
高速的雾化及一体炉双重的工艺，使硅碳包覆更均匀就把硅烷利用率提高90%以上；
5层真空室使用硅烷气体安全得到保证上。
型 号
外型尺寸
装载量
工作温度
极限温度
真空度
总功率
气氛类别
设备重量
MGB140-120-200HL2
6000*5000*5000
200KG
400℃~800℃
1000℃
1-2.5Pa
230KW
SiH4/CH4
10T
关键词：
产品咨询
服务热线：
联系人：韩女士 13715309912 （微信同号）
地址：深圳市坪山区坪山街道六和社区宝山第四工业区第20栋
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