高真空镀膜设备——真空热蒸镀膜机基本技术要求
2024-07-29
什么是热蒸发真空系统?
一般来说,热蒸发器的真空系统从大气压抽真空到基准压力 10-06 mbar 需要一小时或更短的时间。
如今,大多数单位都使用300–1000 l/s 范围内的 涡轮分子泵 ,并辅以双级 旋片泵、干式、 涡旋式 或多 级罗茨泵。理想情况下,这些涡轮分子泵是水平安装的。这可以防止碎屑(涂层碎片、细丝、小螺钉等)落入泵中。大多数系统不使用涡轮分子泵前面的阀门。
蒸发器上方设有手动或电动/气动快门。这可避免在蒸发材料处于高温、升温或冷却状态时连续涂覆整个腔室。这还可确保通过固定时间生产可重复的涂层。大多数装置还使用薄膜监视器来测量(和控制)涂层厚度。

高真空镀膜设备——真空热蒸镀膜机基本技术要求
高真空镀膜设备——真空热蒸镀膜机设备中真空管道和静密封件(法兰、密封件等)的结构形式应符合GB/T6070的规定。
在真空及高真空管道上及真空镀膜室内应安装真空测量仪表,测量各部位真空度。当发现有电场干扰测量时,应在测量口安装电场屏蔽装置。
若设备所用主泵为扩散泵,则应在泵的进气侧安装油汽疏水阀。
设备的镀膜室应设有观察窗,并应有挡板装置,通过观察窗应能观察到沉积源及其他关键部件的工作情况。
离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜过程中的电离率,提高镀膜材料的利用率,合理匹配沉积源的功率,合理布置沉积源在真空室体内的位置。
合理布置加热装置。一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀。
工件支架应与真空室体绝缘,工件支架的设计应使膜层分布均匀。
离子镀设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源,离子轰击电源应具有抑制异常放电的装置,并保持稳定工作。

真空热蒸镀膜机的常见应用
光学薄膜涂层
热蒸发通常用于涂覆光学器件和眼科镜片。蒸发多层来改善镜片的性能。其中包括抗反射层、硬涂层、防红外或防紫外光涂层、防晒涂层和镜面涂层。真空室直径高达 1500 毫米 — 每个真空室可容纳数百个镜片,具体取决于镜片的直径。镜片固定在专门设计的可旋转半球形罩中,以确保一批产品上薄膜均匀。因此,真空系统由 2000/s 级的大型涡轮分子泵或低温泵与小型罗茨鼓风机前真空系统组合而成。
消费包装用薄膜涂层
大型涂布机通常用于为包装箔进行卷材涂层。铝等薄膜在“卷对卷”卷材涂布机中应用于塑料箔。这些薄膜形成一道防空气和防潮的保护屏障,可延长消费品的新鲜度和保质期。
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