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气相沉积制粉一体真空炉
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气相沉积制粉一体真空炉

应用领域:氧化亚硅等材料混炼、提纯,气相沉 积制粉
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产品描述
参数

应用领域:氧化亚硅等材料混炼、提纯,气相沉 积制粉

工艺特点:气相沉积制粉

型 号

装料尺寸

装载量

工作温度

极限温度

真空度

总功率

气氛类别

工序时长

设备重量

MGC50-50-360HH

Φ400 * 1600

800KG

1350℃

1600℃

0.1-0.5Pa

150KW

Ar/N2

8H

12T

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