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气相沉积制粉一体真空炉


应用领域:氧化亚硅等材料混炼、提纯,气相沉 积制粉
详细产品工艺描述及工艺参数请进入产品详细信息
  • 产品描述
    • 商品名称: 气相沉积制粉一体真空炉
    • 商品编号: 1096144115868520448

    应用领域:氧化亚硅等材料混炼、提纯,气相沉 积制粉</br> 详细产品工艺描述及工艺参数请进入产品详细信息

    应用领域:氧化亚硅等材料混炼、提纯,气相沉 积制粉

    工艺特点:气相沉积制粉

    型 号

    装料尺寸

    装载量

    工作温度

    极限温度

    真空度

    总功率

    气氛类别

    工序时长

    设备重量

    MGC50-50-360HH

    Φ400 * 1600

    800KG

    1350℃

    1600℃

    0.1-0.5Pa

    150KW

    Ar/N2

    8H

    12T

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